氧化鋅薄膜高剪切納米分散機

透明導電薄膜是一種兼備高導電及可見光波段高透明特性的基礎光電材料，廣泛應用于顯示器、發光器件、太陽能電池、傳感器、柔性觸摸屏等光電顯示領域，具有廣泛的商業應用前景。

分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續運行。而普通乳化機很難做到連續長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉速的運行。可以處理量大，運轉更平穩，更方便,適合工業化在線連續生產，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料****通過分散剪切。

一種性能優異的氧化鋅薄膜的制備方法，該方法包括如下步驟：

（1）對聚酯基底進行等離子體表面處理

將柔性聚酯基底放入含有一定洗潔劑的去離子水中，在去離子水中超聲10-15min；然后，用柔軟干凈的毛刷逐一對柔性聚酯基底的正反面進行洗刷以去除基底表面的污垢和油污，之后，用去離子水反復沖洗基底，直至基底無泡沫為止；接著，將柔性聚酯放入乙醇中超聲10-15min，以去除基底表面的有機物，之后，用去離子水反復沖洗基底4-6次；接著，將柔性聚酯基底進行去離子水超聲25-30mins，然后，將容器中超聲后的去離子水倒出，加入新的去離子水；**，將潔凈的柔性聚酯從去離子水中逐一取出平鋪在潔凈的大號培養皿上，一起放進溫度為55-60℃的潔凈烘箱內進行烘烤24-30h；

將清洗、干燥后的柔性聚酯基底放入磁控濺射機的腔體內，關閉磁控濺射機的所有閥門、窗口、所有靶材正下方的濺射擋板，對腔體進行抽真空，至3×10-4-5×10-4pa；

將反濺射擋板旋轉至柔性聚酯基底的正上方，通入氬氣和氧氣，調節聚酯基底與反濺射擋板的間距，設定相應的氬氧比例、總體氣體流量、工作氣壓、濺射功率和等離子體處理時間，對柔性聚酯基底表面進行反濺射等離子體處理；

（2）制備導電溶膠

將二水合醋酸鋅溶解在溶劑中，使鋅離子的摩爾濃度為0.5-1mol/L，在30-35℃條件下攪拌至溶解后，向溶液中依次加入穩定劑和硫酸鋁，**爾比，Al3+:Zn2+＝0.02-0.03:1，混合溶液在75-85℃的水浴中恒溫攪拌4-5h，所得混合溶液在室溫下陳化25-30h，得到導電溶膠；

（3）將導電溶膠，使用旋涂法在上述經等離子表面處理后的聚酯基底上制備氧化鋅凝膠薄膜，將得到氧化鋅凝膠薄膜在空氣中，100-105℃條件下干燥10-20分鐘；接著在空氣中，450-500℃條件下熱處理10-20分鐘，得到氧化鋅薄膜。

高速剪切均質分散機主要應用于處理大量生成超細懸乳液。由于同時用三個均質頭(轉子和定子)進行處理，可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒，因而生成的混合液的穩定性更好。分散頭容易更換,適合于各種不同的應用。不同的機器都有相同的轉速和剪切率，這樣便于規模擴產。符合CIP和SIP的清潔標準,因此特別適合于食和藥品生產 

三級高剪切分散機器，主要用于微乳液及超細懸乳液的生產。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同工藝應用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大規?；a。也符合CIP/SIP清潔標準，適合食品及醫藥生產。

 
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高的轉速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據一些行業特殊要求，其剪切速率可以超過15000rpm，轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。

以下為型號表供參考：

氧化鋅薄膜高剪切納米分散機

• GRS2000小型納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機
• GMD2000磷酸氫鈣混懸劑分散機
• GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機
• GMD2000納米金屬氧化物研磨分散機
• GRS2000納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機
• GRS2000化學肥料高剪切乳化研磨分散機
• GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機
• GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機