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產(chǎn)品名稱：
GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨
產(chǎn)品型號(hào)：更新時(shí)間： 2025-08-21描述：GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨，采用了二級(jí)處理結(jié)構(gòu)，*級(jí)采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二級(jí)采用了高剪切分散乳化機(jī)的分散乳化模塊，第二級(jí)模塊可根據(jù)客戶對(duì)物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了水平。
產(chǎn)品介紹
GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨使用皮帶輪按照1：3的比例變速，轉(zhuǎn)速可達(dá)9000rpm，通過變頻調(diào)節(jié)后轉(zhuǎn)速zui高可達(dá)14000rpm，是普通國(guó)產(chǎn)膠體磨轉(zhuǎn)速的3-4倍，立式分體式結(jié)構(gòu)，運(yùn)行平穩(wěn)，符合衛(wèi)生級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。
GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨采用了二級(jí)處理結(jié)構(gòu)，*級(jí)采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機(jī)的分散乳化模塊，第二級(jí)模塊可根據(jù)客戶對(duì)物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了水平。保證粉底液在達(dá)到研磨細(xì)度的基礎(chǔ)上，達(dá)到顆粒粒徑分布范圍小，乳液穩(wěn)定性高的效果。
原理：
粉底液膠體磨在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級(jí)，越向外延伸一級(jí)磨片精度越高，齒距越小，線速度越長(zhǎng)，物料越磨越細(xì)，同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級(jí)流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬(wàn)次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個(gè)精磨區(qū)的上千萬(wàn)次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。
粉底液膠體磨的結(jié)構(gòu)：
粉底液膠體磨是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
的特點(diǎn)：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3、定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
粉底液膠體磨 GMD2000系列設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
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GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
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GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
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GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
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GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
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GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
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